白色抛光垫 可代替罗门哈斯垫子

产品介绍：又称合成纤维聚合物抛光垫，白色，圆形，硬度85，可完美替代SUBA600和SUBA800抛光垫。产品用途：用于对玻璃、晶片的粗

黑色阻尼布 可开槽按要求定制

颜色：黑色 厚度：1.2-1.4mm 硬度：60-70背胶：PT背胶 缓冲垫厚度：5mm 形状：圆形规格型号φ380mm φ460mm φ610mm φ640mmφ86

砷化镓专用抛光液

主要由高纯度的胶态氧化硅微粒所组成，可避免加工元件产生刮伤的现象，特别适合用于砷化镓、锗片、磷化铟、氮化镓、碳化硅、单晶

单晶硅专用抛光液

主要由高纯度的胶态氧化硅微粒所组成，可避免加工元件产生刮伤的现象，特别适合用于砷化镓、锗片、磷化铟、氮化镓、碳化硅、单晶

供应 半导体专用阻尼布 日本进口阻尼布 定制抛光皮

半导体专用阻尼布产品详情：外 观黑色形 状圆形厚 度T1.3、T1.0、T0.8、T0.5mm硬 度65-69（邵氏硬度）压 槽13*13、2*2、5*5、10*

半导体专用抛光垫 抛光皮 日本阻尼布抛光皮SUBA600

半导体专用抛光垫CL-600（合成纤维聚合物抛光垫）产品详情：外 观白　色形 状圆　形厚 度T1.3mm硬 度78±2 Shore-A刻 槽方槽18*1

半导体抛光液 蓝宝石抛光液 蓝宝石窗口片抛光液 表镜片抛光液

半导体专用抛光液： 主要由高纯度的胶态氧化硅微粒所组成，可避免加工元件产生刮伤的现象，特别适合用于砷化镓、锗片、磷化铟、

砷化镓抛光液 光学晶体抛光液 精抛液 二氧化硅抛光液

砷化镓抛光液： 主要由高纯度的胶态氧化硅微粒所组成，可避免加工元件产生刮伤的现象，特别适合用于砷化镓、锗片、磷化铟、氮化

创力工厂直供 抛光液 磷化铟抛光液

磷化铟抛光液： 主要由高纯度的胶态氧化硅微粒所组成，可避免加工元件产生刮伤的现象，特别适合用于砷化镓、锗片、磷化铟、氮化

半导体抛光液

骏驰新材料生产的抛光液是以胶体二氧化硅为磨料，具有抛光速率高、表面质量好等特点，抛光后表面平均粗糙度小于0.2 nm。适用于：

半导体抛光皮，硅抛光皮，阻尼布，精抛皮

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氧化锆抛光液ZRF-C|硒化锌|氟化镁|氟化钙|红外光学抛光

硒化锌抛光|氟化镁抛光|氟化钙抛光|红外光学抛光|晶泽光学|氧化锆ZRF抛光液系列-适用FCD1、FCD505、FCD515、FCD100、FK61、S-PHM

氧化锆抛光液ZRF-A|环球ZOX-N|软玻璃抛光|晶泽光学

氧化锆抛光液ZRF|氧化铈抛光粉|软玻璃抛光|晶泽光学|氧化锆ZRF抛光液系列-适用FCD1、FCD505、FCD515、FCD100、FK61、S-PHM52等，

氧化铝粉

高纯纳米氧化铝粉、氢氧化铝粉，锂膜粉、抛光粉、陶瓷粉

提供高纯纳米氧化铝粉、氢氧化铝粉，应用在蓝宝石行业、LED衬底行业、锂电池隔膜行业、透明陶瓷、结构陶瓷等行业。我公司采用水

郑州龙达LD26 聚氨酯抛光皮

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龙达阻尼布精抛垫

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LDU 黄色抛光皮

LDU 淡黄色, 不含磨料纯聚氨酯, 硬度为邵氏A88±2应用领域：精密光学玻璃，蓝宝石，半导体基板常用规格长方片：1400×590,1400×

氧化铈抛光粉

大家好，出售稀土抛光粉-粉-粉。抛光液-液-液，硬材质，中软，软材质，普通粉达到80左右良品，高端粉（可替代1663，抛ZK,ZF,FK61

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