稀土研磨粉 氧化铈抛光粉 使用LAF、ZF、微晶玻璃抛光

大家好： 我司位于世界稀土之都包头市，研发高性能稀土抛光粉，公司拥有几十种型号粉，可为棱镜、平面、球面、小球、非球面等提

稀土研磨抛光粉 氧化铈粉 K9、石英、ZK系列专用抛光

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稀土抛光粉 软材质专用 FCD\FK系列研磨抛光

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稀土氧化铈抛光粉 晶体材料专用

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稀土氧化铈抛光粉 球面、透镜、平面抛光专用

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抛光粉 PD-3003

产品名称：氧化铈抛光粉 型号：PD-3003 化学指标：TREO95% CeO2：65-70% La2O330% F4 % PH：6-8物理指标： D50：0.9-1.2μmD100

白色抛光垫 可代替罗门哈斯垫子

产品介绍：又称合成纤维聚合物抛光垫，白色，圆形，硬度85，可完美替代SUBA600和SUBA800抛光垫。产品用途：用于对玻璃、晶片的粗

黑色阻尼布 可开槽按要求定制

颜色：黑色 厚度：1.2-1.4mm 硬度：60-70背胶：PT背胶 缓冲垫厚度：5mm 形状：圆形规格型号φ380mm φ460mm φ610mm φ640mmφ86

砷化镓专用抛光液

主要由高纯度的胶态氧化硅微粒所组成，可避免加工元件产生刮伤的现象，特别适合用于砷化镓、锗片、磷化铟、氮化镓、碳化硅、单晶

单晶硅专用抛光液

主要由高纯度的胶态氧化硅微粒所组成，可避免加工元件产生刮伤的现象，特别适合用于砷化镓、锗片、磷化铟、氮化镓、碳化硅、单晶

供应 半导体专用阻尼布 日本进口阻尼布 定制抛光皮

半导体专用阻尼布产品详情：外 观黑色形 状圆形厚 度T1.3、T1.0、T0.8、T0.5mm硬 度65-69（邵氏硬度）压 槽13*13、2*2、5*5、10*

半导体专用抛光垫 抛光皮 日本阻尼布抛光皮SUBA600

半导体专用抛光垫CL-600（合成纤维聚合物抛光垫）产品详情：外 观白　色形 状圆　形厚 度T1.3mm硬 度78±2 Shore-A刻 槽方槽18*1

半导体抛光液 蓝宝石抛光液 蓝宝石窗口片抛光液 表镜片抛光液

半导体专用抛光液： 主要由高纯度的胶态氧化硅微粒所组成，可避免加工元件产生刮伤的现象，特别适合用于砷化镓、锗片、磷化铟、

砷化镓抛光液 光学晶体抛光液 精抛液 二氧化硅抛光液

砷化镓抛光液： 主要由高纯度的胶态氧化硅微粒所组成，可避免加工元件产生刮伤的现象，特别适合用于砷化镓、锗片、磷化铟、氮化

创力工厂直供 抛光液 磷化铟抛光液

磷化铟抛光液： 主要由高纯度的胶态氧化硅微粒所组成，可避免加工元件产生刮伤的现象，特别适合用于砷化镓、锗片、磷化铟、氮化

半导体抛光液

骏驰新材料生产的抛光液是以胶体二氧化硅为磨料，具有抛光速率高、表面质量好等特点，抛光后表面平均粗糙度小于0.2 nm。适用于：

半导体抛光皮，硅抛光皮，阻尼布，精抛皮

半导体专用阻尼布产品详情：外 观黑色形 状圆形厚 度T1.3、T1.0、T0.8、T0.5mm硬 度65-69（邵氏硬度）压 槽13*13、2*2、5*5、10*

氧化锆抛光液ZRF-C|硒化锌|氟化镁|氟化钙|红外光学抛光

硒化锌抛光|氟化镁抛光|氟化钙抛光|红外光学抛光|晶泽光学|氧化锆ZRF抛光液系列-适用FCD1、FCD505、FCD515、FCD100、FK61、S-PHM

氧化锆抛光液ZRF-A|环球ZOX-N|软玻璃抛光|晶泽光学

氧化锆抛光液ZRF|氧化铈抛光粉|软玻璃抛光|晶泽光学|氧化锆ZRF抛光液系列-适用FCD1、FCD505、FCD515、FCD100、FK61、S-PHM52等，

氧化铝粉